Alvo de Tântalo

Alvo de Tântalo

alvo redondo de tântalo
R05200, R05400
alvo de sputerring tântalo
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Descrição

 

Introdução de Produtos

1. O alvo de Tântalo é tântalo de alta pureza com diâmetro que varia de 200 a 1000 mm para o alvo de vácuo sputtering.

2. Informações Básicas

Nota: RO5200

Tipo: alvo quadrado, alvo redondo e alvo em forma de especial

Material alvo de talulo de tântalo: alvo metálico, alvo de liga, alvo composto cerâmico

Composição química do tântalo

Grauprincipais elementosImpureza ≤%
ObrigadaNbFeSiNiWMoTiNbOCHN
Ta1ficar-0.0050.0050.0020.010.010.0020.050.0150.010.0020.005
Ta2ficar-0.030.020.0050.040.020.0050.10.030.020.0050.025

Mostras de Detalhes


tantalum round target

alvo de sputtering tântalo

tantalum target

alvo redondo de tântalo

3. Alvo metálico:

Alvo de níquel, alvo de titânio, alvo de magnésio, alvo de nióbio, alvo de lata, alvo de alumínio, alvo de índio, alvo de ferro, alvo de alumínio de zircônio, alvo de alumínio, alvo de zircônio, alvo de alumínio- silício, alvo de silício, alvo de cobre, alvo de tântalo, alvo de germânio, alvo de ouro, alvo de gadolínio, alvo de nétano, alvo de ítrio, alvo de tungstênio, alvo de aço inoxidável, alvo de níquel-cromo, alvo de hemônio, alvo de monideno, alvo de níquel ferro, alvo de sputtering de metal de tungstênio, etc.

4. O alvo de Tantalum é usado principalmente na indústria de informações eletrônicas, como circuitos integrados, displays de cristal líquido, armazenamento a laser, armazenamento de informações, dispositivos de controle eletrônico, etc.; também pode ser usado no campo do revestimento de vidro; também pode ser usado em materiais resistentes ao desgaste, alta temperatura e resistência à corrosão, e produtos de decoração high-end e outras indústrias.

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